Оборудование Canon использует метод нанопечати для нанесения контуров микросхем прямо на кремниевой подложке, что существенно сокращает время и затраты по сравнению с традиционными методами. Компания заявила, что планирует начать поставки такого оборудования уже в этом году и рассчитывает на освоение 2-нанометрового процесса в будущем.
Однако стоит отметить, что новая технология не является революционной и не обещает радикально изменить индустрию производства чипов. Она лишь предлагает более дешевую и быструю альтернативу существующим методам, что может быть полезно для небольших компаний и стартапов, которым не нужно производить большие объемы продукции.
Кроме того, эксперты отмечают, что на первом этапе новая технология позволит сэкономить только до десяти раз по сравнению с классической фотолитографией, а для достижения более существенных результатов потребуются дополнительные исследования и усовершенствования.
Если вам понравился материал, кликните значок - вы поможете нам узнать, каким статьям и новостям следует отдавать предпочтение. Если вы хотите обсудить материал - не стесняйтесь оставлять свои комментарии : возможно, они будут полезны другим нашим читателям!
