Современная электроника №8/2023

ЭЛЕМЕНТЫ И КОМПОНЕНТЫ 27 WWW.SOEL.RU СОВРЕМЕННАЯ ЭЛЕКТРОНИКА • № 8 / 2023 НОВОСТИ МИРА OLED-дисплеи Raystar Характеристики • Яркость экрана до 150 кд/м 2 обеспечивает считывание изображения при ярком солнечном свете • Высокая контрастность 10 000:1 • Широкий угол обзора до ±175° • Цвет свечения: жёлтый, зелёный, красный, белый, синий • Формат изображения: 122 × 32, 128 × 64, 240 × 64, 256 × 64 и 96 × 64 точки • Низкая потребляемая мощность 10 мА (схемы управления – токовые) • Светоэмиссионная схема: не требуется система подсветки • Короткое время отклика: 10 мкс при температуре +25°C • Широкий диапазон рабочих температур от –40 до +80°C • Малая толщина модуля дисплея, небольшой вес • Срок службы: 50 000 ч для белого и синего цвета; 100 000 ч для жёлтого, зелёного, красного цветов АВТОМОБИЛЬНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА • СИСТЕМЫ БЕЗОПАСНОСТИ • ИЗМЕРИТЕЛИ МОЩНОСТИ • БЫТОВАЯ ТЕХНИКА • МЕДИЦИНСКИЕ ПРИБОРЫ Прозрачные модели Специсполнение по ТЗ заказчика ОФИЦИАЛЬНЫЙ ДИСТРИБЬЮТОР Китай ответит на санкции США самым передовым литографом , работающим на ускорителе частиц . С его помощью Китай сможет создавать 2- нм чипы Как пишет South China Morning Post, Ки - тай изучает новые возможности произ - водства чипов внутри страны . И одной из таких является передовой литограф , работающий на ускорителе частиц . Ко - манда из Университета Цинхуа уже ве - дёт активные переговоры с властями но - вого района Сюнган в провинции Хэбэй на севере Китая о выборе строительной площадки для передового проекта . В пла - нах – построить ускоритель частиц с дли - ной контура 100–150 метров , в котором луч ускорителя превратится в высокока - чественный источник света для произ - водства очень « тонких » чипов . В отличие от мирового лидера в про - изводстве литографов , нидерланд - ской Advanced Semiconductor Materials Lithography (ASML), выступающей за уменьшение размеров машин для изго - товления чипов , китайский проект под - разумевает строительство огромной фа - брики , на которой разместят несколько литографических машин вокруг одного ускорителя . Такой подход обеспечит мас - совость и дешевизну производства одно - кристальных систем . В настоящее время 7- нанометровые чипы производятся с применением EUV- литографии , а ASML со своими машина - ми доминирует на рынке ( за прошлый год компания поставила 180 EUV- литографов , в текущем году должна поставить ещё 60). И хотя эта технология является самой изученной и , можно сказать , надёжной , китайцы решили пойти другим путём . Работы над альтернативным проектом в Университете Цинхуа под руководством профессора Тана Чуаньсяня идут с 2017 года , в них принимает участие и Huawei. Ключевой принцип – создание лазерного источника света по технологии устойчи - вого микрогруппирования (Steady-State Microbunching, SSMB). Впервые принци - пы SSMB описал профессор Чжао Ву из Стэнфордского университета в 2010 году . Чжао – бывший ученик известного физи - ка Ян Чжэньнина . SSMB предполагает использование энергии заряженных частиц в качестве источника излучения с узким рассеянием . Устройство может генерировать высоко - качественное излучение от терагерцовых волн с длиной волны 0,3 мм до волн EUV с длиной волны 13,5 нм , пояснил Чжао . Иными словам , SSMB даёт практически идеальный источник света , который име - ет более высокую среднюю мощность в сравнении с EUV- литографией И хотя учёные понимают всю важность их разработки для Китая , создание рабо - тающего SSMB- литографа – это перспек - тива не ближайшего времени . – До нашей независимой машины EUV- литографии предстоит пройти ещё дол - гий путь , но источники EUV- света на базе SSMB дают нам альтернативу санкцион - ным технологиям , – сказал профессор Тан . – Для создания пригодной к использо - ванию системы литографии требуются по - стоянные технологические инновации на основе источников света SSMB и сотруд - ничество с добывающими и перерабаты - вающими предприятиями , – добавил он . industry-hunter.com