Минпромторг выделил почти полмиллиарда на создание отечественных литографов

Минпромторг заказал разработку метрологического оборудования для разработки и настройки литографических установок. Ведомство выделило на это 497,1 млн руб. и опубликовало тендер на опытно-конструкторские работы (ОКР) 2 ноября 2024 г.

Цель ОКР состоит в разработке эталонного комплекса параметров лазерного излучения в ультрафиолетовой области спектра для развития метрологического обеспечения разработки, производства, испытаний и эксплуатации лазерной техники, применяемой в литографическом оборудовании нового поколения, следует из описания объекта закупки.

Работы выполняются в рамках госпрограммы «Научно-технологическое развитие».

Сам комплекс будет состоять из аппаратуры энергии лазерного излучения на длинах волн 193 и 248 нм, аппаратуры средней мощности энергетических параметров лазерного излучения на длинах волн 193 и 248 нм, а также аппаратуры пространственно-энергетических параметров той же длины волны и единицы длины волны лазерного излучения в ультрафиолетовом спектральном диапазоне.

Оборудование необходимо для воспроизведения и передачи энергетических, спектральных и пространственно-энергетических единиц в ультрафиолетовой области спектра средствам измерений, применяемым при метрологическом обеспечении ультрафиолетовых лазеров в литографическом оборудования при разработке, производстве, испытаниях и эксплуатации.

Комплектующие изделия и материалы должны быть отечественного производства и обеспечивать отсутствие критической зависимости от иностранных производителей. Работы должны быть завершены в конце апреля 2027 г.

При выполнении работы должны соблюдаться требования конфиденциальности сведений, касающихся выполняемой работы и полученных результатов.

«Заказанное Минпромторгом оборудование, это не совсем метрологическое оборудование – это эталон для поверки технических (а точнее оптических) параметров российских эксимерных лазеров, которые будут использованы в российских установках литографии, – рассказал CNews руководитель департамента электронного машиностроения международного научно-технологического центра (МНТЦ) МИЭТ Яков Петренко. – Эталон нужен для того, чтобы верифицировать заявленные параметры произведенного лазера на заданной длине волны».

«В России есть хороший задел в части финальной метрологии, то есть измерения итоговых параметров готовой микросхемы. В этом разделе есть несколько российских производителей», – продолжил Петренко.

По его словам, основные сложности состоят в оборудовании для контроля операций внутри производственного процесса (in-line): это установки контроля привносимой дефектности, металлических загрязнений, контроля совмещения слоев, растровый электронный микроскоп, профилометры, эллипсометры и т.д. «Всего в этой части программы развития электронного машиностроения предусмотрена разработка 15 типов контрольно-измерительного и метрологического оборудования, – подчеркивает Яков Петренко. – Часть разработок уже ведется, в том числе институтами Российской академии наук».

«Оборудование и материалы сегодня на острие мер господдержки, – подчеркивает исполнительный директор АКРП-Консорциум дизайн-центров Вера Смирнова. – Лазерные технологии в России развиваются достаточно активно». Наиболее актуальные ниши измерительного оборудования – это применения в сфере микроэлектроники, печатных плат с учетом развития производственных мощностей по этим переделам, отметила Смирнова.

Напомним, производство российского оборудования для выпуска чипов с топологией 350 нм начнется в 2024 г., а 130 нм – в 2026 г. Такие амбициозные планы озвучил замглавы Минпромторга Василий Шпак. Сейчас оборудование, которое создают белорусский «Планар» и Зеленоградский нанотехнологический центр – фотолитограф (степпер) для изготовления микросхем 350 нм, уже проходит тестирование.

Источник: https://russianelectronics.ru/2024-11-07-otechestvennyh-litografov/